微弧離子鍍是將真空腔內(nèi)的伏安特性置于由穩(wěn)態(tài)的輝光放電向穩(wěn)態(tài)的弧光放電過渡時(shí),氣體放電雙峰曲線上客觀存在的非穩(wěn)態(tài)正反歐姆轉(zhuǎn)變區(qū)間,利用因靶面放電而產(chǎn)生的熱積累至局部微熔的延緩間隔,實(shí)現(xiàn)靶面鍍料粒子經(jīng)濺射的級(jí)聯(lián)碰撞脫靶機(jī)制演變?yōu)闊岚l(fā)射脫靶(未達(dá)到熔融噴射程度)機(jī)制,從原理上既提高了脫靶粒子的離化率,又避免了“微熔滴”噴射的“高溫效應(yīng)”。 微弧離子鍍的開發(fā)是結(jié)合了濺射鍍膜與多弧鍍膜兩者鍍料粒子濺射出與沉積成膜上的優(yōu)點(diǎn),同時(shí)也避免了兩者在成膜過程中的不足之處,使成膜質(zhì)量與效率得以大幅提高。
硬質(zhì)CRTIALN鍍層硬度:>30 GPA;結(jié)合強(qiáng)度:>60 N;使用壽命:28~30萬次;失效方式:基體疲勞。
GLC鍍層摩擦系數(shù):0.05~0.09;磨損率:3.0×10-17 m3/NM;GLC鍍層對(duì)摩磨損率:5.0×10-18 m3/NM。
江陰微弧金屬科技
Copyright © 2021 江陰微弧金屬科技有限公司 《中華人民共和國(guó)電信與信息服務(wù)業(yè)務(wù)經(jīng)營(yíng)許可證》 編號(hào): 蘇ICP備2021029357號(hào) 技術(shù)支持: 華企立方